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氫氣設備

ANH系列氨分解制氫裝置(氨分解)
設備特點(diǎn):
  • 工藝簡(jiǎn)單,結構緊湊,運行穩定;

  • 無(wú)人值守,遠程監控;

  • 全保溫棉爐膛設計,能耗低,比同類(lèi)產(chǎn)品節能約20%;

  • 梅花樁爐膽設計,觸媒效率高,氣流分布均勻,阻力??;

  • 分區可控硅控溫,工作溫度穩定可調;

  • 氣量、壓力等指標可選可調,滿(mǎn)足不同工況需求;

  • 建議原料氨使用GB優(yōu)等品,更低殘氨、露點(diǎn)要求,配合氨分解氣純化裝置使用。

設備參數/Equipment Parameter
氣量/Flow Rate: 5-500Nm3/h工作溫度/Working Temperature: 800~850℃
露點(diǎn)/Dew Point: -10℃壓力/Pressure: 0.05MPa (0.2MPa Optional)
殘氨/Residual Ammonia: 1000ppm
NHP系列氨分解氣純化裝置(純化裝置)
設備特點(diǎn):
  • 工藝簡(jiǎn)單,結構緊湊,運行穩定;

  • 一鍵啟停,無(wú)人值守,遠程監控;

  • 標配氮氣再生工藝,比同類(lèi)產(chǎn)品節能約10%;

  • 氣量、壓力等指標可選可調,滿(mǎn)足不同工況需求;

  • 與氨分解裝置配合使用,可以多套氨分解配置1套純化裝置。

設備參數/Equipment Parameter
氣量/Flow Rate: 5-2000Nm3/h露點(diǎn)/Dew Point: -70℃
壓力/Pressure: 0.05MPa (0.2MPa Optional)殘氨/Residual Ammonia: 3ppm
PH系列變壓吸附制氫裝置(PSA制氫)
設備特點(diǎn):
  • 工藝簡(jiǎn)單,結構緊湊,運行穩定;

  • 一鍵啟停,無(wú)人值守,遠程監控;

  • 啟動(dòng)快,開(kāi)機60min可輸出合格產(chǎn)品氣;

  • 常溫、低壓(≤2.5MPa)運行,安全可靠;

  • 氣量、壓力等指標可選可調,滿(mǎn)足不同工況需求;

  • 以含氫混合氣為原料,便捷制取純氫,可配合氨分解及純化裝置使用。

設備參數/Equipment Parameter
氣量/Flow Rate: 5-5000Nm3/h露點(diǎn)/Dew Point: -70℃
壓力/Pressure: 1.0MPa (1.5、2.0MPa Optional)純度/Purity: 99.9~99.999%
HP系列氫氣純化裝置(氫純化)
設備特點(diǎn):
  • 工藝簡(jiǎn)單,結構緊湊,運行穩定;

  • 一鍵啟停,無(wú)人值守,遠程監控;

  • 啟動(dòng)快,開(kāi)機15min可輸出合格產(chǎn)品氣;

  • EXdii CT4級防爆,安全可靠;

  • 氣量、壓力等指標可選可調,滿(mǎn)足不同工況需求;

  • 與水電解制氫等配合使用,可低成本獲取氧含量≤3ppm,露點(diǎn)≤-70℃的高純氫氣。

設備參數/Equipment Parameter
氣量/Flow Rate: 5-5000Nm3/h露點(diǎn)/Dew Point: -70℃
壓力/Pressure: 3.2MPa (1.6MPa Optional)純度/Purity: 99.9995% (O?≤3ppm)
再生耗氣/Regenerative Gas Consumption: 0
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